光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，在半导体工业、PCB、平板显示等领域得到广泛应用。目前，全球缺芯背景下晶圆厂产能扩张正逐步迎来落地，半导体光刻胶市场需求稳步向上。

光刻胶起源于美国，柯达KTFR光刻胶为光刻胶工业的开创者，光刻胶跟随摩尔定律不断演进。1950s贝尔实验室尝试开发首块集成电路，半导体光刻胶由此诞生，并成为六七十年代半导体工业的主力体系，为半导体工业发展立下汗马功劳。

超级电容器是一种可以实现快速储存和释放电能的储能装置，具有功率密度大、充放电时间短和节能环保等优点，目前已经在越来越多的领域中取代传统蓄电池，凭借着独特的性能为各个应用行业提供便利。

与其他国家相比，我国超级电容器行业虽起步较晚，但近年来迅速发展，目前已陆续涌现出宁波中车、上海奥威、江海股份和锦州凯美等优质超级电容器生产厂商，在各个细分市场中处于全球前列，未来随着我国超级电容器行业国产化进程不断加快，各大龙头企业生产能力提升，市场将趋于集中化发展。

超级电容器作为主要的辅助动力源，相比于传统电池具有更高的功率密度，具有充电时间短、绿色环保等优点，近些年来逐步替代了传统储能器件，特别是在新能源领域的应用最为广泛，在行业技术、成本和政策三重利好的发展环境之下，我国超级电容器行业将继续保持高速增长。

随着新能源、电网建设和各类消费电子等下游行业的持续发展，在一定程度上拉动了超级电容器的市场需求增长，全球超级电容器行业市场规模整体呈现扩大的趋势，在超级电容器行业技术不断发展的同时，将会开拓更多的应用领域。

随着社会科技水平的提高，大众对电子产品的使用愈加广泛，模块电源市场需求也呈现稳步提高的态势，随着我国模块电源行业的不断发展，在电源市场中的占比持续上升，标准化程度也在不断提高。