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溅射靶材是制备半导体晶圆和显示面板等表面电子薄膜的关键材料之一，其应用于电子元器件制造的物理气相沉积工艺等，是目前主流的镀膜材料，由于溅射靶材行业技术门槛较高，行业内具有规模化生产能力的企业数量不多，本文从行业发展壁垒及机遇两个方面对中国溅射靶材行业进行全面分析。

当前全球溅射靶材行业主要被几家大型企业垄断，长期掌握市场主动权，相比之下我国市场主要集中在中低端领域，近几年随着国家政策的积极引导，行业内各大企业逐步加大研发投入，推动国产化率不断提高，在全球市场中的份额持续扩大。

由于受到行业技术的影响，国外溅射靶材生产厂商的市场竞争优势较高，占据市场主导地位，与国外市场相比，我国溅射靶材行业起步阶段稍晚，国内市场多依赖于进口，但是随着我国半导体等制造业产能的不断提升，溅射靶材的市场需求量持续扩大。

随着全球半导体集成电路行业的不断发展，对溅射靶材等相关材料的重视程度持续提升，在行业下游应用领域需求旺盛的发展背景之下，近年来全球溅射靶材行业取得了较大的突破，推动市场规模不断扩大，整体呈现快速增长的态势。

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