2015-2020年，全球光刻机销售量总体增长，2020年达413台，同比增长16.7%。2021年全球光刻机销量约450台，全球光刻机销量仍以中低端产品(KrF、i-Line)为主，合计达264台，占比约65%;其次分别为ArF immersio、Arf dry、EUV，占比分别为19%、8%及8%。

尽管我国光刻机产业自20世纪80年代以来从未停止过发展的脚步，但仍然面临着许多困境和挑战，在提高分辨率和缩小线宽等技术尚不成熟，也没有达到完全自主研发的水平。在未来的发展中，我国光刻产业还需提高技术创新能力、自主研发能力。

长期以来，我国的光刻技术落后于先进国家，近年来，在国家政策的扶持下，我国光刻机技术也开始了飞速的发展，本文北京研精毕智信息咨询有限公司对中国光刻机发展现状进行了分析。

光刻机是光刻工艺的核心设备，也是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备，包含上万个零部件，集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域等多项顶尖技术。作为整个芯片工业制造中必不可少的精密设备——光刻机，其光刻的工艺水平直接决定芯片的制程和性能水平，因此光刻机更是被誉为半导体工业皇冠上的明珠。

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近些年中国经济不断深化，科技水平日益提高，面对着不断加大的节能减排压力，对工业电机的需求越来越多，从我国工业电机行业的发展趋势来看，主要表现为向智能化和绿色化的方向发展，本文深入探讨了中国工业电机行业的发展前景和趋势。