光刻胶是集成电路领域微加工的关键性材料，为推动光刻胶等半导体材料行业的发展，国家、地方层面政策先后出台。其中，既有国家层面印发的战略性、鼓励性、支持性政策等，也有各个省市进一步落实国家政策发布的规划、意见、指导目录等。尤其在中美贸易冲突的影响下，产业供应链安全和自主可控成为重中之重，国产替代迫在眉睫，乃行业发展的大势所趋。

光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，在半导体工业、PCB、平板显示等领域得到广泛应用。目前，全球缺芯背景下晶圆厂产能扩张正逐步迎来落地，半导体光刻胶市场需求稳步向上。

光刻胶起源于美国，柯达KTFR光刻胶为光刻胶工业的开创者，光刻胶跟随摩尔定律不断演进。1950s贝尔实验室尝试开发首块集成电路，半导体光刻胶由此诞生，并成为六七十年代半导体工业的主力体系，为半导体工业发展立下汗马功劳。

2022年12月15日通信周动态

2022年12月15日储能周动态

在手机普及程度越来越高的背景下，短视频正在逐渐成为年轻一代或者更多消费者的主要选择，各大互联网企业也开始纷纷入局短视频平台，根据北京研精毕智信息咨询有限公司发布的行业分析报告，2021年我国短视频市场规模达到了2910亿元，市场增长空间广阔。

由于受到疫情大环境的影响，人们有更多的时间上网，各类技能和知识开始在各个短视频平台广泛地传播，近几年短视频市场持续扩大，其中抖音、快手、西瓜视频和人人视频等短视频平台在成熟度和用户规模等方面具有较为明显的优势。